| 专利名称 | 一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置及方法 | ||
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| 申请号/专利号 | CN201710838372.5 | 专利权人(第一权利人) | 长春工业大学 |
| 申请日 | 2017-09-17 | 授权日 | 2023-04-07 |
| 专利类别 | 授权发明 | 战略新兴产业分类 | 高端装备制造 |
| 技术主题 | 平版印刷术|机械工程|纳米压印光刻|干法蚀刻|物理学|材料科学 | ||
| 应用领域 | 最终产品制造|光机械设备 | ||
| 意向价格 | 具体面议 | ||
| 专利概述 | 本发明涉及一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置及方法,属于紫外纳米压印光刻领域。调节装置通过螺钉固定在主机架上部的滑块三和滑块四上,可升降平台的步进电机一固定于机架内部,并通过与支撑杆轴承配合固定于机架上,工作平台的Y轴工作平台方向指向可升降平台,工作平台通过螺钉固定于机架中央的底板上,运输装置一和运输装置二通过螺栓分别固定于机架的两侧,紫外灯固定于机架的支撑梁上,干蚀刻装置与机架由螺钉连接,固定于机架右侧的通道中。优点是结构新颖,压印装置相较于以往的滚对平面压印装置有更高的生产效率;使得模板与衬底更好的共形接触;减少了紫外曝光过程中热应力较大对模板和衬底的损伤。 | ||
| 图片资料 |
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| 合作方式 | 具体面议 | ||
| 联系人 | 戚梅宇 | 联系电话 | 13074363281 |