| 专利名称 | 一种基于非谐振辅助的纳米压印装置 | ||
|---|---|---|---|
| 申请号/专利号 | CN201921067351.9 | 专利权人(第一权利人) | 长春工业大学 |
| 申请日 | 2019-07-10 | 授权日 | 2019-12-31 |
| 专利类别 | 实用新型 | 战略新兴产业分类 | 高端装备制造 |
| 技术主题 | 填充率|机械工程|微纳米|纳米压印光刻|共振|分辨率 | ||
| 应用领域 | 光机械设备 | ||
| 意向价格 | 具体面议 | ||
| 专利概述 | 本实用新型公开了一种基于非谐振辅助的纳米压印装置,首先将衬底放在衬底卡盘中,调节Y轴位移平台及X‑Z轴位移平台使衬底移动到模板正下方,再控制X‑Z轴位移平台使压印装置向下运动,直至压印装置与衬底微接触,控制X‑Z轴位移平台进行压印,在压印同时使用Z向振动平台对衬底施加Z向振动,然后利用冷却装置对衬底进行冷却固化,最后用揭开式振动辅助的方法进行脱模,本实用新型采用Z向振动平台带动衬底进行压印,提高模板空腔的填充率与微纳图案的分辨率;采用吸气泵及多个独立封闭通道在脱模时实现揭开式脱模,在模板在与衬底逐渐分离的同时进行振动辅助,减小模板与压印胶间的粘附力,从而减少脱模时对模板造成的损伤与毁坏,延长模板的使用寿命。 | ||
| 图片资料 |
|
||
| 合作方式 | 具体面议 | ||
| 联系人 | 戚梅宇 | 联系电话 | 13074363281 |