专利名称 一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法
申请号/专利号 CN201910617378.9 专利权人(第一权利人) 长春工业大学
申请日 2019-07-10 授权日 2023-10-27
专利类别 授权发明 战略新兴产业分类 材料化工
技术主题 复合结构|微观结构|硫醇|纳米技术|苄硫基|苄基|温度处理|超疏水|光栅|醇
应用领域 照相制版工艺涂层设备
意向价格 具体面议
专利概述 一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法摘要一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法,首先利用涂胶装置一、涂胶装置二将压印胶苄基硫醇钯均匀涂抹到衬底一、衬底二表面,然后压印装置一、压印装置二分别对衬底一、衬底二进行压印得到带有纵向光栅结构的衬底一、带有横向光栅结构的衬底二,对衬底一进行高温处理一小时使苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅,然后在压印装置三的作用下横向光栅脱离衬底二,并粘附到纵向光栅上形成叠堆结构,再进行一小时的高温处理使横向苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅,得到超疏水微结构。本发明通过使用辊对辊压印,使用纳米压印与化学相结合的方法制备超疏水微结构,可轻易制备出复合结构,避免衬底多次取放,减少制备时间与对准误差,成本大大降低。
图片资料 一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法
合作方式 具体面议
联系人 戚梅宇 联系电话 13074363281